选中多层二硫化钼薄膜摩擦学行为研究这一题目的目的800字

本文旨在研究多层二硫化钼薄膜摩擦学行为。首先，将介绍多层二硫化钼膜的材料特性；其次，将实验方法介绍出来；最后，将对实验数据进行分析并得出有意义的结论。 多层二硫化钼是一种金刚石相似的材料，具有优异的耐用性、耐腐蚀性、耐冲击性以及低摩擦因子。它在航天、航海、电子工业中得到广泛应用。此外，它还可以作为一个优异的密封剂来使用；作为一个可保证不间断工作的部件使用时可大大减少故障时间。因此，对其摩擦学行为的理解和评估显得尤其重要。 本实验采用原位X射线光电子能谱(XPS)测试法来评估多层二硫化钼(MoS2) 膜上不合样式之间的相互作用力和畸变应力情况。后者是通过在XPS中测量吸光度随能量变化情况考察MoS2 膜上畸变应力情况所得到的信息。 XPS 技术是一套快速、便利并能够直接测量表畴衣氢原子吸光度随能量变化情况考察MoS2 膜上畸变应力情况所得到的信息. XPS 技术是一套快速、便利并能够直接测量表畴衣氢原子吸光度随能量变化情况考察MoS2 膜上畸变应力情况所得到 的信 息. 实 验 结 果 初 步 预 示 ： 多重 MoS2 膜 系 统 之 间 存